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半導體製程6 分鐘閱讀

薄膜沉積(PVD/CVD)的製程能力評估

嘿,這篇故事超有感!作者剛升資深就遇到主管拿著 CPK 1.08 的薄膜報告,氣到會議室瞬間結冰,那種「這東西能出貨嗎?」的壓力,光看就覺得胃痛。文章接著帶你深入淺出地了解薄膜沉積到底是什麼,還有 PVD、CVD 這兩種常見技術是怎麼回事。讀完你會知道,為什麼薄膜製程能力評估這麼重要,以及晶片製造裡那些看似不起眼的「磚塊」,其實藏著多少眉角和挑戰,超適合想了解半導體製程的朋友!

CPK 1.08?那張報告讓會議室瞬間冰點

記得有次,我剛升上資深沒多久,部門主管突然衝進來,手上拿著一份薄膜沉積的 CPK 報告,臉色鐵青。他直接把報告拍在桌上,指著上面 CPK 1.08 的數字,問大家:「這東西能出貨嗎?客戶能接受嗎?」整個會議室瞬間安靜,連掉根針都聽得到。那時候我心裡想,薄膜這玩意兒,到底要怎樣才能讓製程穩穩的?客戶對厚度、均勻度那些要求,真的每次都搞死人。說穿了,就是每次新產品或製程優化,我們都得重新評估這些沉積製程的能力,看它到底能不能達標。

薄膜沉積,到底在搞什麼?

你可能不是每天都在機台前盯著,但應該知道,我們做的晶片堆疊,薄膜就是最基礎的「磚塊」。PVD(物理氣相沉積)和 CVD(化學氣相沉積)是兩種最常見的薄膜沉積方式。簡單來說,PVD 就像是在真空鍋裡,把材料「蒸」出來,然後附著在晶圓上;CVD 則是把兩種氣體送進去,讓它們在晶圓表面發生化學反應,然後生成薄膜。聽起來很酷對吧?但其實眉角多到爆。

那到底薄膜製程能力評估是評什麼?說白了,就是看你的 PVD/CVD 機台,在實際量產時,能不能穩定地做出符合客戶規格的薄膜。我們要看的不只是單一一個點的厚度,而是整片晶圓,甚至整批晶圓的厚度、均勻度、應力、顆粒數這些指標,到底能不能落在規格範圍內。

實際上怎麼做?數字會說話!

要評估一個薄膜製程的能力,我們通常會跑一個「製程能力研究」(Process Capability Study)。

  1. 數據收集: 你要選定一個有代表性的產品,用實際量產的機台和參數,跑至少 30 片晶圓(越多越好)。每片晶圓都要量測關鍵的薄膜特性,例如:
* 薄膜厚度(可能要量 9 點、17 點甚至更多)

* 薄膜均勻度(Total Thickness Variation, TTV)

* 薄膜應力

* Defect 顆粒數

* 甚至電性參數(如果薄膜是導電層)

  1. 計算 CPK: 拿到這些數據後,我們就會算出製程能力指數 CPK。CPK 值越高,代表製程越穩定,越不容易做出不良品。舉個例,如果客戶要求薄膜厚度在 1000 ± 50 埃,我們量測出來的數據平均是 1005 埃,標準差是 15 埃,那 CPK 可能就是 1.08。這個數字一出來,大家臉就綠了,因為業界通常會希望 CPK 至少達到 1.33,有些要求高的甚至要 1.67 以上。
  2. DPMO 計算: 除了 CPK,我們也會看 DPMO(Defects Per Million Opportunities),也就是每百萬次機會中,出現多少不良品。如果你的薄膜製程 DPMO 是 6210,代表每做一百萬個單位,就有 6210 個是不良的,這數字聽起來是不是很嚇人?

所以重點是,你必須有足夠的數據,才能客觀地判斷你的 PVD/CVD 製程到底行不行。

最常見的坑:量測誤差跟機台狀態

說實話,我踩過最大的坑,有兩個。第一個是「量測誤差」。有一次我們拼命調整參數,薄膜 CPK 就是上不去,後來才發現,是量測儀器根本沒校準好,每次量出來的數據都有偏差,害我們白忙一場。所以,在做任何製程能力評估前,務必確認你的量測系統是準確可靠的,這就是 GR&R(Gauge Repeatability & Reproducibility)要做的事。

第二個坑就是「機台狀態」。有時候,我們為了趕時間,會用剛維修完、或甚至還沒完全穩定的機台去跑製程能力研究。結果跑出來的數據當然慘不忍睹,因為機台根本還沒進入最佳狀態。坦白講,你必須確保機台在一個穩定的、代表未來量產的條件下,才能得到有意義的評估結果。不要為了省時間,犧牲了評估的準確性。

今天能做的一件事

回去檢查一下你們製程的最新 CPK 報告,看看有沒有接近 1.33 的。

想試試看?

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